特殊废气处理系统-NOx
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De-NOx System(常温型高效率NOx处理 System-90% )
处理原理:
工艺中产生的NOx在氧化区和O3(臭氧)进行反应后产生NO2和O2，NO2和还原剂反应后产生N2及盐，N2可直接排放取代反应的盐，经监测ORP数值后和废水一起排出。
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Oxidation Zone |
Reduction Zone |
Electrostatic Precipitator Zone |
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半导体排放的NOx中的NO通过 Remote Plasma氧化成NO2 |
从氧化区产生的NO₂和还原剂进行反应 产生盐 |
减少废气中的微尘，以及氧化/还原反应中 产生的微尘 |
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反应机制 NO+O₃ →NO₂ |
反应机制 |
反应机制 |
脱硝设备对比:
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区分 |
氧化/还原 |
还原 |
干湿吸附 |
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De- NOx System |
SCR |
CSCR |
SNCR |
吸附塔 |
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处理原理 |
通过Plasma把NOx氧化成NO2，离子化的NO2再进行还原处理 |
废气和还原剂在催化剂接触，废气中的NOx和还原剂选择性反应后还原出氮气和水蒸气 |
活性炭催化剂上喷洒氨水去除氮氧化合物 |
产生NOx的源头喷洒还原剂来降低NOx |
利用范德瓦尔斯力(分子间作用力)，使用吸附剂进行吸附处理 |
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运行温度 |
常温~200℃ |
300~400℃ |
90~120℃ |
900~1,100℃ |
常温 |
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处理气体 |
NOx,SOx,Dust, |
NOx | NOx |
NOx |
NOx除外，可吸附的气体 |
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处理效率 |
90%以上 |
80~90% |
70~90% |
40~60% |
70~90% |
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使用药剂 |
Na系列 |
NH3,CO系列 |
NH3系列，UREA... |
NH3系列，UREA... |
- |
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触媒 |
无 |
使用高价触媒 |
使用 |
无 |
- |
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缺点 |
▪ CW(循环水) |
▪ 催化剂使用寿命短 |
▪ 需使用两次吸附剂 |
▪ 温度底时产生白烟 |
▪ 设备体积大 |
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其它 |
NOx处理效率可调整(还原剂投入量) |
不可能或有限制 |
不可能或有限制 |
不可能或有限制 |
不可能或有限制 |
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